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BOC Edwards iH1800 iH 1800 Subfab Harsh Chemical Semiconductor Dry Vacuum Pump System

BOC Edwards iH1800 iH 1800 Subfab Semiconductor Dry Vacuum Pump System

BOC爱德华iH1800 IH 1800系列subfab干式真空泵困难苛刻的过程,如等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和低压化学气相沉积(LPCVD),其中颗粒,凝和腐蚀性副产品,提供高可靠性呈现。BOC爱德华iH1800 IH 1800 subfab干式真空泵的工作压力之间的大气和极限真空无润滑或密封液体在泵室。这确保了无回油被疏散系统迁移到干净的抽水系统。BOC爱德华iH1800 IH的1800系统与HCMB-1800干增压泵HCDP160干泵;苛刻的化学品干泵(HCDP)有封闭,水冷电机。IH系统,因此适合应用在清洁的环境,风扇电机的冷却是不可接受的。这些爱德华兹iH1800 IH 1800干式真空泵有燃气系统引入HCDP泵吹扫气体。这种气体系统是适用于苛刻的职责过程。如果您使用轻型或中型流程的IH系统,您可以使用省煤器气模,以减少泵送系统吹扫氮气的消耗。你可以手动控制,通过IH泵的显示终端系统。或者,您可以使用过程中的工具或其他控制设备通过接口模块,或通过IM通信模块配件控制的IH系统的运作,或您可以使用控制操作的爱德华兹iH1800 IH IH单设备显示器配件1800 subfab干式真空泵。

半导体晶圆厂的应用包括:

负载锁定
转让
计量
光刻
物理气相沉积PVD工艺
物理气相沉积的PVD前清洁
快速热退火退火
蚀刻
植入物源
高密度等离子体化学气相沉积的HDP CVD
快速热加工RTP
小组大气化学气相沉积SACVD
钨化学气相沉积WCVD
改进的化学气相沉积法MCVD
等离子体增强化学气相沉积PECVD反应
低压化学气相沉积LPCVD

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